根據(jù)國(guó)家食品藥品監(jiān)督管理局和化學(xué)工業(yè)學(xué)會(huì)和制藥工業(yè)學(xué)會(huì)相關(guān)統(tǒng)計(jì), 我國(guó)是抗生素的生產(chǎn)大國(guó), 年生產(chǎn)量約為21萬(wàn)t.抗生素的大量使用使環(huán)境中抗生素抗性菌(antibiotic resistant bacteria, ARB)和抗生素抗性基因(antibiotic resistant gene, ARG)的含量也隨之增加, 而且城市污水處理廠已經(jīng)成為環(huán)境體系中ARB和ARG的儲(chǔ)存庫(kù).但是污水處理廠的二級(jí)水處理技術(shù)對(duì)ARB的消減作用不佳, 污水處理廠出水中仍含大量ARB, 其含量為5.0×102~6.1×105 CFU·(100 mL)-1, 具有潛在的環(huán)境健康風(fēng)險(xiǎn).而研究表明污水處理廠的消毒處理技術(shù)能夠進(jìn)一步去除生化反應(yīng)沒(méi)有去除的ARB, 減少ARB對(duì)環(huán)境的危害, 從而保護(hù)公眾身體健康.

　　消毒處理技術(shù)是污水處理工藝的重要組成部分, 國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局(現(xiàn)國(guó)家環(huán)境保護(hù)部)于2003年要求“城鎮(zhèn)污水處理廠出水應(yīng)結(jié)合氯、紫外線(xiàn)或臭氧等消毒處理, 保證污水出水中糞大腸桿菌小于103個(gè)·L-1”.如今, 污水處理工藝中常見(jiàn)的消毒技術(shù)有臭氧消毒、紫外消毒和氯消毒, 但是關(guān)于消毒技術(shù)去除ARB的研究并不是很多, 而且結(jié)論也存在一定的差異性, 沒(méi)有提出對(duì)ARB的有效控制和去除方案.

　　Guo等認(rèn)為紫外劑量為5.0 mJ·cm-2時(shí), 污水處理廠出水中紅霉素抗性菌和四環(huán)素抗性菌的去除率可達(dá)到1.4 log和1.1 log; Oh等在研究不同消毒技術(shù)對(duì)ARB和ARG的去除時(shí)發(fā)現(xiàn)：當(dāng)次氯酸鈉濃度超過(guò)30.0 mg·L-1時(shí), ARB和ARG的去除率超過(guò)90%, 臭氧濃度超過(guò)3.0 mg·L-1時(shí)ARB和ARG的去除率超過(guò)90%, 另外臭氧消毒過(guò)程中投加雙氧水等氧化劑能夠一定程度上提高ARB的去除效率. Zhang通過(guò)分析不同的消毒技術(shù)對(duì)抗生素抗性基因的去除效果發(fā)現(xiàn), 紫外消毒(500.0 mJ·cm-2)、氯消毒(40.0 mg·L-1)、紫外(62.0 mJ·cm-2)耦合次氯酸鈉(5.0 mg·L-1)消毒等對(duì)抗生素抗性基因的去除效果依次為0.8~1.2 log、1.7~2.3 log、1.1~1.9 log和2.4~3.5 log.但是, Munir等研究發(fā)現(xiàn)氯消毒和紫外消毒對(duì)ARB的去除效果并不是很明顯(P>0.05).

　　因此本文通過(guò)研究污水處理廠出水經(jīng)過(guò)不同消毒技術(shù)處理后不同ARB的去除效果, 分析不同消毒技術(shù)去除ARB的優(yōu)劣性.同時(shí), 結(jié)合不同消毒技術(shù)對(duì)化學(xué)需氧量(COD)、總氮(TN)和氨氮(NH4+-N)的去除情況, 篩選適合于高排放標(biāo)準(zhǔn)污水處理廠的消毒方法和消毒藥劑最佳投量, 以期為未來(lái)城市污水處理廠關(guān)于ARB的環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估和優(yōu)化去除提供理論依據(jù)和技術(shù)支持.

　　1 材料與方法1.1 目標(biāo)污水處理廠

　　本研究選擇位于無(wú)錫市的某污水處理廠, 該污水處理廠采用傳統(tǒng)的序批式活性污泥工藝(sequencing batch reactor, SBR), 出水達(dá)到《城鎮(zhèn)污水處理廠污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB 18918-2002) 的一級(jí)A標(biāo)準(zhǔn), 消毒采用紫外消毒技術(shù), 該污水處理廠的基本情況如表 1所示.

　　表 1 污水處理廠基本情況

　　1.2 樣品采集

　　樣品采集于污水處理廠SBR工藝的濾布濾池出水處和紫外消毒出水處, 從而有利于對(duì)比該污水處理廠實(shí)際消毒方式對(duì)ARB的去除效果與本實(shí)驗(yàn)的差異.樣品儲(chǔ)存于5 L無(wú)菌采樣瓶, 采集結(jié)束后立即運(yùn)回實(shí)驗(yàn)室于4℃保存, 并在48 h內(nèi)稀釋進(jìn)行接種培養(yǎng)實(shí)驗(yàn).

　　1.3 實(shí)驗(yàn)裝置

　　本研究采用靜態(tài)模擬實(shí)驗(yàn)方式, 共分為4種消毒方式, 依次以a、b、c、d表示, a為臭氧消毒, 通過(guò)臭氧發(fā)生器(COM-AD-01) 控制臭氧濃度, 消毒時(shí)間為10 min; b為紫外消毒, 紫外劑量=紫外強(qiáng)度×消毒時(shí)間.其中紫外光照由紫外燈管(YUVC-30W)提供, 紫外強(qiáng)度利用紫外輻射計(jì)(UV-B)測(cè)定, 實(shí)驗(yàn)在置于磁力攪拌器上并放入轉(zhuǎn)子攪拌的燒杯中進(jìn)行; c為次氯酸鈉消毒, 采用六聯(lián)攪拌器(MY3000-6A), 消毒30 min, 轉(zhuǎn)速為200 r·min-1; d為紫外耦合次氯酸鈉消毒, 次氯酸鈉消毒時(shí)間30 min, 其中紫外消毒劑量恒定為30 mJ·cm-2.

　　1.4 抗生素抗性菌的檢測(cè)方法

　　參考抗生素的分類(lèi)、抗生素的使用以及抗生素抗性菌在我國(guó)的分布情況, 本研究選擇氨芐霉素抗性菌(ampicillin resistant bacteria, AMP)、紅霉素抗性菌(erythromycin resistant bacteria, ERY)、四環(huán)素抗性菌(tetracycline resistant bacteria, TET)、卡那霉素抗性菌(kanamycin resistant bacteria, KAN)及環(huán)丙沙星抗性菌(ciprofloxacin resistant bacteria, CIP)分析該污水處理廠消毒前后出水中ARB的分布規(guī)律, 并利用傳統(tǒng)的異養(yǎng)菌平板培養(yǎng)法來(lái)檢測(cè)目標(biāo)ARB.同時(shí)為了說(shuō)明ARB占HPC的比例, 也對(duì)消毒前后出水中總異養(yǎng)菌數(shù)量進(jìn)行技術(shù)分析.

　　抗生素溶液的配置：目標(biāo)抗生素濃度依據(jù)《臨床和實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)》(Clinical And Laboratory Standards Institute, CLSI)中抗生素對(duì)細(xì)菌的最小抑制濃度確定, 具體如表 2所示.首先配制高濃度的抗生素作為母液, 其中氨芐霉素(10 g·L-1)、四環(huán)素(1 g·L-1)、卡那霉素(10 g·L-1)和環(huán)丙沙星(1 g·L-1)溶液的溶劑均為超純水, 并采用0.45 μm水相濾頭過(guò)濾; 而紅霉素(10 g·L-1)的溶劑為甲醇, 并采用0.45 μm有機(jī)相濾頭過(guò)濾.過(guò)濾之后的抗生素溶液需保存于-20℃冰箱中, 且保存時(shí)間不宜超過(guò)一周.在使用時(shí)根據(jù)所需要抗生素的濃度取相應(yīng)體積母液進(jìn)行稀釋.

　　表 2 目標(biāo)抗生素基礎(chǔ)信息及使用濃度

　　抗生素培養(yǎng)基制備：培養(yǎng)基R2A agar(CM0906, OXOID, 配制濃度為18.1 g·L-1), 用蒸餾水配好后于121℃高壓滅菌20 min, 冷卻至60~70℃后根據(jù)表 2中抗生素的使用濃度, 加入一定量的抗生素母液(用于總異養(yǎng)菌計(jì)數(shù)的平板無(wú)需添加抗生素, 直接倒平板即可), 與培養(yǎng)基混合均勻后倒入平板中, 待冷卻至室溫后使用.

　　ARB檢測(cè)：首先用磷酸鹽緩沖液(PBS, pH=7.4) 將待測(cè)水樣梯度稀釋, 取50 μL接種于含抗生素的R2A瓊脂平板中, 在37℃培養(yǎng)箱中培養(yǎng)24 h, 選取菌落數(shù)在30~300個(gè)之間的平板進(jìn)行計(jì)數(shù), 細(xì)菌計(jì)數(shù)采用細(xì)菌活菌平板計(jì)數(shù)方法. HPC檢測(cè)的方法同ARB一樣, 只是將接種平板更換為無(wú)抗生素平板.

　　1.5 水質(zhì)指標(biāo)的測(cè)試方法

　　本實(shí)驗(yàn)過(guò)程中各項(xiàng)水質(zhì)指標(biāo)采用文獻(xiàn)的方法測(cè)定, 其中COD采用重鉻酸鉀快速烘箱法; NH4+-N采用納氏試劑分光光度法; TN采用堿性過(guò)硫酸鉀消解紫外分光光度法.

　　2 結(jié)果與討論2.1 污水處理廠消毒前后抗生素抗性菌的分布

　　由圖 1可知, 目標(biāo)污水處理廠消毒前后出水中5種目標(biāo)ARB的豐度排序?yàn)锳MP>ERY>TET>KAN>CIP, 經(jīng)過(guò)紫外消毒處理后污水處理廠出水中HPC由13.0×103 CFU·mL-1減少至7.0×103 CFU·mL-1, 去除率為53.8%; ARB由(0.2~5.6)×103 CFU·mL-1減少到(0.1~4.0)×103 CFU·mL-1, 去除率為18.2%~40.9%. ARB的分布與區(qū)域周邊生活污水、工業(yè)廢水的排放以及人類(lèi)活動(dòng)等因素密切相關(guān).本研究中目標(biāo)污水處理廠進(jìn)水中含有45.0%的工業(yè)廢水, AMP是該污水處理廠出水中含量最多的ARB. Yuan等也認(rèn)為污水處理廠出水中β-內(nèi)酰胺類(lèi)ARB占HPC的比例高達(dá)30%.而且研究者也發(fā)現(xiàn)污水處理廠β-內(nèi)酰胺類(lèi)ARB濃度明顯高于其他類(lèi)ARB, 其主要原因是氨芐霉素屬于β-內(nèi)酰胺類(lèi)抗生素, 而這類(lèi)抗生素是我國(guó)醫(yī)療抗生素中最常使用的藥物, 該類(lèi)抗生素大量排放后會(huì)引起其抗性菌的增多.

圖 1 污水處理廠紫外消毒前后抗生素抗性菌的分布情況

　　2.2 不同消毒技術(shù)對(duì)抗生素抗性菌的選擇性去除

　　抗生素抗性菌占總異養(yǎng)菌的比例(ARB/HPC)變化規(guī)律可進(jìn)一步表明不同消毒處理技術(shù)對(duì)ARB的選擇性去除效果.如圖 2所示, AMP/HPC最高為37.5%~57.9%; ERY/HPC次之, 約為1.4%~16.9%; TET/HPC、KAN/HPC、CIP/HPC均在5.0%以下.從中可知, 隨著消毒劑量增加, ARB/HPC也發(fā)生變化.通過(guò)臭氧、紫外以及氯消毒之后, ERY/HPC和KAN/HPC均有所降低, CIP/HPC卻有所增加, 而AMP/HPC和TET/HPC無(wú)明顯變化趨勢(shì)(P<0.05).現(xiàn)階段關(guān)于消毒技術(shù)對(duì)ARB的選擇性去除效果仍有爭(zhēng)議, 有研究者認(rèn)為紫外消毒會(huì)使TET/HPC上升; 但也有研究者認(rèn)為紫外消毒會(huì)使ERY/HPC和CIP/HPC下降, 卻對(duì)TET無(wú)選擇性去除效果.這可能與污水進(jìn)水水質(zhì)、取樣方式和消毒劑量等不同有關(guān).

(a)為ARB/HPC百分比隨臭氧濃度變化的情況; (b)為ARB/HPC百分比隨紫外劑量變化的情況; (c)為ARB/HPC百分比隨次氯酸鈉濃度變化的情況; (d)為在紫外劑量為30.0 mJ·cm-2的條件下, ARB/HPC百分比隨次氯酸鈉濃度變化的情況

圖 2 不同消毒技術(shù)對(duì)抗生素抗性菌占總異養(yǎng)菌比例的影響

　　2.3 不同消毒技術(shù)對(duì)抗生素抗性菌的強(qiáng)化去除

　　不同消毒技術(shù)對(duì)不同ARB的強(qiáng)化去除效果不同.對(duì)比實(shí)際污水處理廠中紫外消毒對(duì)HPC(去除率為53.8%)和ARB(去除率為18.2%~40.9%)的去除效果, 發(fā)現(xiàn)增加污水處理廠消毒濃度或劑量能夠達(dá)到強(qiáng)化去除ARB的效果, 甚至使部分ARB失活. 圖 3(a)所示, 臭氧濃度的增加能夠強(qiáng)化去除ARB(P<0.05).臭氧濃度在5.0 mg·L-1時(shí), HPC和ARB含量迅速降低且去除率在45.5%~74.5%;當(dāng)臭氧濃度增加到30.0 mg·L-1時(shí), ARB基本失活.其中ERY的去除率高達(dá)99.6%, 這是因?yàn)榇蟓h(huán)內(nèi)酯類(lèi)抗生素含有不飽和的酯鍵, 該鍵為易水解的快速反應(yīng)敏感化學(xué)鍵, 而臭氧一般會(huì)優(yōu)先對(duì)反應(yīng)速度快的物質(zhì)發(fā)揮殺菌作用, 抑制這些抗生素的作用機(jī)制, 進(jìn)而減少ARB含量.另外, 臭氧與不同的過(guò)濾處理(砂濾或活性炭)聯(lián)合作用時(shí), 可以進(jìn)一步降低污水處理廠出水的抗生素抗性菌含量.

(a)為ARB濃度隨臭氧濃度變化的情況; (b)為ARB濃度隨紫外劑量變化的情況; (c)為ARB濃度隨次氯酸鈉濃度變化的情況; (d)為在紫外劑量為30.0 mJ·cm-2的條件下, ARB濃度隨次氯酸鈉濃度變化的情況

圖 3 不同消毒技術(shù)對(duì)不同抗生素抗性菌的去除效果

　　圖 3(b)所示, 紫外劑量的增加能夠強(qiáng)化ARB(P<0.05) 的去除.紫外消毒對(duì)HPC和ARB的去除效果相對(duì)較差, 紫外劑量為30.0 mJ·cm-2時(shí), ARB去除率為46.2%~70.5%;當(dāng)紫外劑量達(dá)到90.0 mJ·cm-2時(shí), ARB去除率為86.4%~98.6%. Guo等也發(fā)現(xiàn)當(dāng)污水處理廠的紫外劑量高于50 mJ·cm-2時(shí)ARB基本失活.另外, 可以通過(guò)減緩出水流速, 增加出水經(jīng)過(guò)紫外消毒的停留時(shí)間實(shí)現(xiàn)強(qiáng)化去除ARB的目的.

　　圖 3(c)所示, 次氯酸鈉濃度增加能夠強(qiáng)化去除ARB(P<0.05).次氯酸鈉濃度在25.0 mg·L-1時(shí), ARB去除率為66.1%~85.5%, 且高濃度的次氯酸鈉消毒對(duì)5種ARB均有較好的去除效果, 甚至使部分ARB失活, 如TET、KAN、CIP.對(duì)比圖 3(c)和圖 3(d), 表明次氯酸鈉耦合紫外的消毒方式對(duì)HPC和ARB的去除效果優(yōu)于單獨(dú)的次氯消毒, 該觀點(diǎn)與Munir等[4]的實(shí)驗(yàn)結(jié)論一致, 次氯酸鈉濃度和紫外劑量分別在25.0 mg·L-1和30.0 mJ·cm-2時(shí), ARB去除率為72.7%~88.2%.

　　2.4 不同消毒技術(shù)對(duì)水質(zhì)指標(biāo)的影響

　　圖 4(a)所示, 臭氧濃度的增加能夠加以強(qiáng)化COD和NH4+-N的去除(P<0.05).臭氧濃度為10.0 mg·L-1時(shí), COD和NH4+-N分別由31.0 mg·L-1和1.1 mg·L-1降至15.0 mg·L-1和0.7 mg·L-1; 當(dāng)臭氧濃度達(dá)到30.0 mg·L-1時(shí), COD和NH4+-N去除率約為68.0%, 與Martínez等研究成果較為接近. 圖 4(b)所示, 紫外劑量的增加能夠促進(jìn)去除COD和NH4+-N (P<0.05).但是紫外消毒對(duì)COD和NH4+-N去除效果較差, 紫外劑量為90.0 mJ·cm-2時(shí), COD和NH4+-N去除率僅為19.4%和11.2%, 該結(jié)論與Vaccari等的結(jié)論相吻合.對(duì)比圖 4(c)和圖 4(d), 發(fā)現(xiàn)次氯酸鈉濃度的增加能夠強(qiáng)化去除COD和NH4+-N(P<0.05), 并且紫外耦合次氯酸鈉消毒時(shí), 低濃度次氯酸鈉(25.0 mg·L-1)條件下, COD和NH4+-N分別降至22.5 mg·L-1和0.9 mg·L-1, 相應(yīng)去除率分別為27.4%和21.7%;當(dāng)次氯消毒濃度高達(dá)100.0 mg·L-1時(shí), COD和NH4+-N去除率依次為41.9%和42.0%.其原因在于, 臭氧和次氯酸鈉能夠?qū)⑺�體中的有機(jī)物質(zhì)氧化, 從而使污水中COD降低.而NH4+-N的去除主要與次氯酸鈉的消毒機(jī)理有關(guān), 在氨氮存在的條件下, 氯和氨氮反應(yīng)生成一氯胺、二氯胺等物質(zhì), 一氯胺進(jìn)一步被氧化成氮, 二氯胺則反應(yīng)生成硝酸鹽, 從而使水中游離氨氮濃度降低.但是, 4種消毒技術(shù)對(duì)TN基本沒(méi)有去除能力(P>0.05).

(a)為COD、TN和NH4+-N濃度隨臭氧濃度變化的情況; (b)為COD、TN和NH4+-N濃度隨紫外劑量變化的情況; (c)為COD、TN和NH4+-N濃度隨次氯酸鈉濃度變化的情況; (d)為在紫外劑量為30.0 mJ·cm-2的條件下, COD、TN和NH4+-N濃度隨次氯酸鈉濃度變化的情況

圖 4 不同消毒技術(shù)對(duì)水質(zhì)指標(biāo)的去除效果

　　同時(shí), 綜合圖 3與圖 4中消毒技術(shù)對(duì)ARB、COD、NH4+-N的去除效果, 發(fā)現(xiàn)當(dāng)臭氧濃度、紫外劑量、次氯酸鈉濃度依次為5.0 mg·L-1、45.0 mJ·cm-2、25.0 mg·L-1時(shí), ARB的去除率增速最快, 而繼續(xù)增加消毒濃度或劑量, ARB的去除率增速反而降低, 因此本研究將以上濃度視為消毒的最佳濃度或劑量.而且, 次氯酸鈉耦合紫外消毒對(duì)ARB的去除效果更佳.污水處理廠實(shí)際選用臭氧、紫外、次氯酸鈉及次氯酸鈉耦合紫外消毒時(shí), 所需成本分別為0.1、0.02~0.03、0.02~0.04和0.02~0.04元·m-3，且污水處理廠處理水量越大消毒處理成本越低, 因此建議該污水處理廠出水消毒處理采用經(jīng)濟(jì)合理的次氯酸鈉耦合紫外消毒方式, 實(shí)現(xiàn)對(duì)污水處理廠出水中ARB、COD和NH4+-N的強(qiáng)化去除.具體參見(jiàn)污水寶商城資料或http://wlmqsb.com更多相關(guān)技術(shù)文檔。

　　3 結(jié)論

　　(1) 污水處理廠出水中含量最多的ARB為AMP, 污水處理廠實(shí)際紫外消毒對(duì)ARB的去除率僅為18.2%~40.9%.

　　(2)4種消毒技術(shù)對(duì)ARB具有選擇性去除效果, 對(duì)ERY的選擇性去除效果較好, 但其他4種ARB無(wú)明顯選擇性去除效果.其中ERY/HPC由16.9%降至1.4%, CIP/HPC反而由1.0%增至5.7%(P<0.05).

　　(3) 確定了不同消毒處理技術(shù)的最佳濃度或劑量：臭氧濃度為5.0 mg·L-1時(shí), ARB的去除率為45.5%~74.5%, COD和NH4+-N去除率分別為32.3%和33.1%;紫外消毒劑量為45.0 mJ·cm-2時(shí), ARB的去除率為68.6%~85.5%, COD和NH4+-N去除率分別為19.4%和11.2%.次氯酸鈉濃度為25.0 mg·L-1時(shí), 其對(duì)ARB的去除率為66.1%~85.5%, COD和NH4+-N去除率分別為37.1%和26.5%, 同時(shí)耦合紫外消毒ARB的去除效果更佳.